Kompaktes Lithographiegerät mit Direktschreibfunktion
Angebot: Kompaktes, leistungsstarkes und erschwingliches optisches Lithographiegerät „MicroWriter ML 3“ mit Direktschreibfunktion, das ein sehr gutes Preis-Leistungs-Verhältnis bietet.
Hintergrund: Bei der konventionellen Photolithographie wird mithilfe eines Maskenjustierers ein Muster von einer Chromglasmaske auf ein mit Fotolack beschichtetes Substrat übertragen. Dieser Prozess weist mehrere Einschränkungen auf: Die Overlay-Genauigkeit wird durch das feste Muster auf der Maske begrenzt; die Ausrichtung mit zufällig verteilten Proben (häufig erforderlich für die Erforschung von 2D-Materialien) ist schwierig, da die Musterpositionen auf der Maske nicht geändert werden können; die Ausrichtung auf der Rückseite ist komplex; flexible oder unebene Untergründe sind schwierig zu bearbeiten.
Merkmale: Diese Einschränkungen werden mit dem neuen System überwunden. Das System speichert die Designmuster in einer Software und projiziert die Belichtungsmuster mithilfe computergesteuerter Optik direkt auf den Fotolack. Mit einer intuitiven Windows-Benutzeroberfläche kann das Overlay-Verfahren (mit einer Überlapp-Genauigkeit von bis zu ±0,5 μm) flexibel durchgeführt werden. Das Softwaretool „Virtual Mask Aligner“ ermöglicht die Ausrichtung zufällig verteilter Proben. Anwender können ihre Muster lokalisieren und dann das Designmuster vor der Belichtung in Echtzeit digital überlagern. Für die Rückseitenausrichtung (Backside Alignment) kann das System mit einer Rückseitenkamera ausgestattet werden, die ein Echtzeit-Mikroskopiebild liefert. Es kann auch zur Belichtung einer Vielzahl verschiedener Substrate verwendet werden, darunter Diamant oder Flüssigpolymer (siehe Abb.).
Die Betriebskosten des neuen Systems sind niedrig, die Photodioden langlebig und der Wartungsaufwand gering. Der Stromverbrauch des Geräts ist mit dem eines Laptops vergleichbar.
