RGA-Lösungen für UHV-Umgebungen
Angebot: Die Lösungen zur Restgas-Analyse in Ultrahochvakuum (UHV)-Umgebungen sind für höchste Genauigkeit und Leistung konzipiert. Sie eignen sich ideal für Branchen wie Halbleiter, Luft- und Raumfahrt oder Pharmazie und zeichnen sich durch Echtzeitanalyse von Gasen aus, um die Integrität des Vakuums und die Prozesseffizienz zu gewährleisten. Die fortgeschrittene Massenspektrometrie-Technologie ermöglicht die detaillierte Erkennung und Quantifizierung verschiedener Gasspezies, entscheidend für Lecksuche, Kontaminationsanalyse und Vakuumüberwachung.
Merkmale: Das Produktspektrum umfasst die Systeme
- „HAL 201 RC“ speziell für UHV-Anwendungen mit Echtzeit-Messfähigkeiten;
- „HALO 201 MBE“ speziell für Molekularstrahlepitaxie, verbessert Leck- und Kontaminationsdetektion;
- „EPIC-Serie“, die umfassende Analyse von Neutralteilchen, Radikalen und Ionen in UHV/XHV-Umgebungen bietet;
- “3F-Serie“ mit ultrahoher Auflösung und erweitertem Massenbereich für präzise Partialdruckmessungen.
Der Hersteller bietet eine Drei-Jahres-Garantie und lebenslangen Support, um die Kundenzufriedenheit zu sichern. Die Systeme werden durch benutzerfreundliche Software ergänzt, was sie sowohl für Neulinge als auch für Experten zugänglich macht.