Beam Profiler mit extrem kompakten Abmessungen
Angebot: Neues Analysesystem „Focus Beam Profiler FBP-Nano“ für fokussierte Laser mit bis zu 50 W Leistung und Spotgrößen von bis zu 10 μm. Speziell konzipiert für den Einsatz unter begrenzten Platzverhältnissen, ermöglicht dieses Messsystem die präzise Analyse der Strahlparameter fokussierter Laser.
Merkmale: Mit Abmessungen von nur 42 × 55 × 30 mm3 ist dieses kompakte Messsystem überall flexibel einsetzbar. Ein Arbeitsabstand von 60 mm ermöglicht zudem auch das Vermessen von Anwendungen mit kürzeren Brennweiten. Der Beam Profiler basiert auf einem mehrstufigen Hochleistungsabschwächer mit einem wechselbaren Filtereinsatz zur optimalen Anpassung an die jeweiligen Laserintensitäten. Die Auswahl der Beschichtungen und der verwendeten Optiken erlaubt einen Einsatz für 355 nm, 532 nm und 1064 nm. Ein beugungsbegrenzt arbeitendes Messobjektiv im abgeschwächten Strahl ermöglicht eine Auflösung von bis zu 1 μm. Damit können fokussierte Laser mit kleinsten Spotgrößen präzise vermessen werden. Eine Reinluft-Spülung in Verbindung mit einem Schutzfenster verhindert das Eindringen von Staub in das Messgerät. Dadurch arbeitet das System auch unter harten Industriebedingungen stabil.
Für größtmögliche Genauigkeit und Reproduzierbarkeit wird die Lage der Messebene rückführbar kalibriert. Auf Anfrage ist auch eine absolute Leitungskalibrierung für spezifische Wellenlängen möglich. In Verbindung mit der Analysesoftware „RayCi“ lässt sich das Messsystem auch effektiv in vorhandene Steuerungs- bzw. Produktionsapplikationen integrieren.
