Industrie & Technik

Deutscher Zukunftspreis 2020 für EUV-Lithographie

26.11.2020 - Renommierte Auszeichnung für Entwickler von Zeiss, Trumpf und Fraunhofer.

Gestern wurde der Deutsche Zukunftspreis – Preis des Bundes­präsidenten für Technik und Innovation – durch Frank-Walter Steinmeier in Berlin verliehen. Ausgezeichnet wurde das Team um Peter Kürz von Carl Zeiss, Michael Kösters von Trumpf und Sergiy Yulin vom Fraunhofer Institut für Angewandte Optik und Fein­mechanik in Jena für ihre Beiträge zur Erforschung, Entwicklung und Indus­trialisierung der EUV-Lithographie. Diese Maschinen ermöglichen durch den Einsatz von extrem ultra­violetten Licht die Chip­herstellung mit den bisher kleinsten Strukturen. Der Zukunftspreis ist mit 250.000 Euro dotiert.

„Diese großartige Auszeichnung würdigt den Technologie­sprung in der Mikro­elektronik, den die Forscherinnen und Forscher gemeinsam mit der nieder­ländischen Firma ASML erreicht haben. Sie konnten mit ihrer Forschung zur Leistungs­steigerung von Mikrochips beitragen und so einen neuen globalen Standard in einer Schlüssel­technologie der Digitalisierung setzen. Dieser Erfolg zeigt, dass Deutschland und Europa gemeinsam technologische Souveränität erreichen können“, sagt Bundesforschungs­ministerin Anja Karliczek. Ihr Ministerium investierte etwa 96 Millionen Euro in die Entwicklung dieser neuen Technologie.

Die EUV-Lithographie ist eine Weiter­entwicklung der optischen Lithographie, bei der mit Hilfe von Laserlicht, welches durch ein spezielles System von Linsen und Spiegeln gelenkt wird, Strukturen für die Schaltkreise auf die Silizium-Wafer aufgebracht werden. Bei der EUV-Lithographie werden durch Nutzung von Licht im extrem ultra­violetten Spektrum wesentlich kleinere Strukturen in der Größenordnung von wenigen Nanometern erreicht. Dies steigert die Leistungs­fähigkeit der Chips. Die EUV-Lithographie ist damit die Krönung des Moore’schen Gesetzes, das seit über 50 Jahren die Leistungs­steigerung von Mikrochips durch immer kleinere Strukturgrößen ermöglicht. Sie bildet eine durch über 2.000 Patente abgesicherte Zukunfts­technologie, die die Basis für den künftigen technischen Fortschritt und die Digi­talisierung unseres Alltags legt.

Um das EUV-Licht zu nutzen, haben die Forscher ein litho­graphisches System entwickelt, das ausschließlich aus Spiegeln besteht und an die Nutzung im Hochvakuum angepasst ist. Dabei erfüllen die Spiegel enorm hohe Anforderungen: Schon Unebenheiten von einem Zehntel Nanometern je Quadratmeter würden die Funktions­fähigkeit des Systems stark beein­trächtigen. Um das EUV-Licht zu erzeugen, hat ein Forscherteam bei Trumpf den stärksten industriellen CO2-Laser der Welt entwickelt. Durch zwei kurz aufeinander folgende Laserpulse auf feine Zinn­tröpfchen wird ein Plasma erzeugt, das Licht in der notwendigen Wellen­länge generiert. Die beiden Komponenten werden von der niederländischen Firma ASML zu einem Gesamt­system integriert. Sie produziert und liefert heute die weltweit einzigen Geräte für die EUV-Litho­graphie. Zusammen mit weiteren Zulieferern tragen Zeiss und Trumpf etwa die Hälfte des Wertes eines 100 bis 120 Millionen Euro teuren EUV-Geräts bei.

Trumpf Chief Techno­logy Officer Peter Leibinger sagt: „Wir freuen uns sehr, dass Michael Kösters, Peter Kürz und Sergiy Yulin von Trumpf, Zeiss und dem Fraunhofer IOF den Deutschen Zukunftspreis gewonnen haben. Sie stehen mit ihrem Erfindergeist, Technik­verständnis, Durchhalte­vermögen und gutem Miteinander geradezu beispielhaft dafür, wie sich durch starke Partner­schaften Zukunfts­technologien zur Industrie­reife entwickeln lassen. Das Mammut-Projekt EUV-Lithographie schafft auch im Corona-Jahr Arbeits­plätze und sorgt darüber hinaus für eine Vorreiter­rolle Europas bei der Herstellung modernster Mikrochips.“

„Ich gratuliere den Forschern von Zeiss, Trumpf und dem Fraunhofer IOF zu dieser groß­artigen Auszeichnung ihrer exzellenten Arbeit. Sie haben mit der EUV-Litho­graphie eine Technologie entwickelt, die weltweit für einen Digi­talisierungs­schub sorgen wird und damit auch den Grundstein für weitere Innovationen legt“, sagt Fraunhofer-Präsident Reimund Neugebauer. „Wir freuen uns gemeinsam mit unseren Partnern sehr über die Auszeichnung des Bundes­präsidenten, die eine enorm aufwändige Entwicklungs­leistung und ihre Übersetzung in eine auf dem Weltmarkt dominierende Technologie würdigt“, sagt Markus Weber, Mitglied des Vorstands der Zeiss Gruppe. „Zeiss steht für optische Höchst­leistung und Präzision. Darauf kommt es in der Chipfertigung von jeher an. Die EUV-Techno­logie ermöglicht als Sprung­innovation weiterhin große Fortschritte in der Digita­lisierung in Wirtschaft und Gesellschaft. Wir sind stolz darauf, gemeinsam mit unserem strate­gischen Partner ASML, Trumpf und Fraunhofer dazu beizutragen.“

BMBF / Zeiss / Trumpf / JOL

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