Die EUV-Lithografie gewinnt das Rennen um die Herstellungsmethode künftiger Mikrochips. Viele Jahre hat die Halbleiterindustrie nach einem kosteneffizienten und massenfähigen Verfahren gesucht, mit dem noch kleinere Strukturen auf Silizium-Wafern belichtet werden können – mit dem TRUMPF Laser Amplifier ist dies möglich!

Referent:


Dr. Jan Müßener

Dr. Jan Müßener hat Physik an der Justus-Liebig-Universität Gießen studiert und seine Promotion im Bereich Laserspektroskopie an Halbleiter-Nanostrukturen abgeschlossen. Nach seiner Zeit als Post-Doc und wissenschaftlicher Mitarbeiter an der Universität Bremen arbeitet er seit über 4 Jahren bei der TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing GmbH in der Optikentwicklung der High-Power-Amplifier-Chain (HPAC).