Vakuum in Forschung und Praxis 6/2020

Blick auf die Analysestelle eines strukturierten Halbleiterwafers im Innern der Vakuumkammer einer ION-TOF-4 ToF-SIMS-Anlage. Die Analysestelle liegt im Fokus zweier Ionenkanonen und der zentral positionierten Extraktion des  Massenspektrometers.  
(Foto: M. Wahl, IFOS GmbH)

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