Optik / Photonik

Scanobjektive für die Stereolithografie

Angebot: Nicht-telezentrisches Objektiv „S4LFT1655/328“ für Stereolithografie-Anwendungen im Infrarot-Wellenlängenbereich.

Hintergrund: Die Stereolithografie ist ein additives Fertigungsverfahren, das sich aufgrund seiner hohen Präzision besonders für die Herstellung von filigranen Bauteilen eignet. Bei diesem Verfahren wird das Bauteil durch Laseraushärtung eines flüssigen Kunststoffs Schicht für Schicht erzeugt. Eine Scanlinse wird benötigt, um den Laser an bestimmten Stellen zu fokussieren, was zu einer Aushärtung an der entsprechenden Stelle führt. Um große Bauteile herstellen zu können, muss das Objektiv ein großes Scanfeld haben. Daher sind nicht-telezentrische Objektive für solche Anwendungen am besten geeignet. Je größer der freie Eingangsstrahldurchmesser ist, desto kleiner ist der minimal erreichbare Fokusdurchmesser, desto genauer ist die Fertigung am Ende. Ein Fokusdurchmesser von weniger als 80 μm ist ideal, um sehr feine Strukturen zu ermöglichen.

Merkmale: Das Objektiv hat ein Scanfeld von 410 mm × 410 mm, was die Herstellung sehr großer Bauteile ermöglicht. Bei einem freien Eingangsstrahldurchmesser von 20 mm sind Fokusgrößen im Bereich von 64 bis 72 μm erreichbar, abhängig von der Scanfeldposition. Dank der Quarzglaslinse eignet sich das Objektiv für Laseranwendungen mit hoher Leistung. Die geringe Materialabsorption und Beschichtung führen zu einer niedrigen Erwärmung der Linse im Betrieb und damit zu einem stabilen Prozess mit minimaler thermischer Fokusverschiebung. Bei eventuell auftretenden Verunreinigungen/Defekten am Schutzfenster kann es vom Kunden leicht ausgetauscht werden.

Kontakt

Sill Optics GmbH & Co. KG

Johann-Höllfritsch-Str. 13
90530 Wendelstein
Deutschland

+49 (0)9129 9023-0

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