Messtechnik

Elektronenspektroskopie-System für schnelles und dynamisches XPS

Angebot: Elektronenspektroskopie-System „PULSE“ für ESCA-Anwendungen (XPS, UPS, AES). Das System ist für die Untersuchung von Reaktionen an Oberflächen und die Überwachung von Prozessabläufen optimiert und gleichzeitig ein leicht zu bedienendes System für die Routinecharakterisierung. Aufgrund seines kompakten modularen Designs kann das UHV-System für jedes Forschungsprogramm individuell konfiguriert werden.

Merkmale: Das System ist ausgestattet mit dem „ASPECT“ Analysator und der monochromatisierten Röntgenquelle „MECS“. Zur instrumentellen Kontrolle, Datenaufnahme und Datenverwaltung mit weitreichenden Bearbeitungsfunktionen dient die Softwareumgebung „NEO“. Der zählende Multikanal-Detektor erlaubt die zeitgleiche Aufnahme von größeren spektralen Intervallen (snapshot), was zusammen mit den kurzen Auslesezeiten des Detektors Echtzeitmessungen mit Auflösungen im Mikrosekunden-Bereich ermöglicht. Als leistungsstärkster Analysator erreicht der „ASPECT“ höchste Signalstärke und ist damit besonders für Anwendungen mit kurzen Messzeiten geeignet. Durch schnelles Umschalten zwischen Peaks (innerhalb von Millisekunden) lässt sich die chemische Zusammensetzung von Oberflächen und ihrer Kinetik zeitaufgelöst untersuchen (Multi Peak Monitoring). Die Analysekammer ist mit vielen zusätzlichen Anschlussports für instrumentelle Erweiterungen (z. B. verschiedene Anregungs- und auch Verdampferquellen) ausgestattet. Die Proben werden über die Loadlock-Kammer, von einem Vakuumkoffer oder über die Ankopplung an ein weiteres UHV-System transferiert. Durch das flexible Systemdesign können unterschiedlichste Konfigurationen umgesetzt werden.

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Sigma Surface Science GmbH

Idsteiner Str. 78
65232 Taunusstein
Deutschland

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