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Gepulste Stromversorgung für HiPIMS-Magnetronsputtern

  • Hersteller: Kurt J. Lesker (KJLC).

Angebot: Überarbeitetes, preiswertes Versorgungsmodul "IMPULSE 2-2" für das Hochenergie-Impulsmagnetronsputtern (HiPIMS) in Kopplung mit einer konventionellen DC-Sputterversorgung.
Hintergrund: HiPIMS ist eine gepulste PVD-Beschichtungstechnik, bei der Pulse mit hoher Amplitude, aber geringem Tastverhältnis verwendet werden, um große Anteile der gesputterten Atome zu ionisieren. Das führt zu einem stark mit Targetmaterial angereichertem Plasma, aus dem sich Schichten mit höherer Dichte, besserer Haftung und verbesserter Mikrostruktureigenschaften abscheiden lassen.
Merkmale: Das neue Modul enthält neben der üblichen Nachglüh- eine positive-Kick-Option. Diese Funktion setzt nach dem negativen Hauptpuls ein, um den Ionentransport zum Substrat zu verstärken. Damit werden die Depositionsrate verstärkt, unerwünschte Entladungen verhindert und die Prozessstabilität erhöht. Mit einem Output von 2 kW eignet sich die Versorgung ideal für Kathoden mit einem Durchmesser bis 4 Zoll. Sie wird sowohl einer Single- als auch in einer Dualkonfiguration angeboten, bei der zwei unabhängige Quellen mit je 2 kW versorgt werden können; auch eine Master/Slave-Konfiguration mit einer 4-kW-Versorgung für eine Einzelquelle ist möglich. Die Dualkonfiguration bietet auch eine DC-Bias-Option für das Subtrat. Bei Einsatz der Dualkonfiguration mit einer Einzelquelle kann die zusätzliche Versorgung für einen DC-Bias am Substrat verwendet werden. – Die Versorgung wird über ein Bedienfeld oder eine Fernbedienung gesteuert; bis zu fünf frei wählbare Speicher-Voreinstellungen sind möglich.

Kontakt:

Kurt J. Lesker Company (KJLC)
Europazentrale
15/16 Burgess Rd.
Hastings, East Sussex
TN35 4NR United Kingdom
Tel.: +44 1424 458 100
Fax: +44 1424 458 103
Deutsche Hotline: 08000 812 843
salesde@lesker.com
www.lesker.com

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